ESC 정전척은 반도체 제조 분야의 핵심 웨이퍼 클램핑 장치로, 정전기 흡착을 기본 원리로 한다. 고전압을 인가해 정전기장을 형성하고, 쿨롱력 또는 존슨-라베크 힘을 통해 웨이퍼의 비접촉식 고정을 구현하며, 플라즈마 식각, 이온 주입, 박막 증착 등 진공 공정에서 빼놓을 수 없는 핵심 부품으로 활용된다.
본 제품은 비자성 환경 및 10⁻⁵ Pa 이하 초고진공 등 가혹한 공정 환경에 적응하며, 웨이퍼, 사파이어, 유리 등 다양한 유전체 소재를 안정적으로 흡착할 수 있다. 바이폴라형, 멀티폴라형, 인터디지테이티드형 전극의 맞춤형 설계를 지원하며, 흡착면의 전체 평탄도 정밀도는 1μm 이내에 달하고 평행도는 5μm 이상의 성능을 보인다. 표준 흡착 전압 조건에서 흡착력은 ≥10N이며, 잔류 흡착력은 24시간 동안 60% 이상 유지되어 장시간 안정적인 클램핑 효과를 지속할 수 있다.
구조 및 성능 측면에서 ESC 정전척은 질화알루미늄, 질화규소 등 고열전도성 세라믹 필름이 코팅되어 있어, 우수한 플라즈마 내식성과 기계적 강도를 동시에 갖추고 있다. 고급형 제품의 경우 멀티존 온도 제어 전극과 배면 헬륨 냉각 시스템을 통합하여 웨이퍼 온도를 정밀하고 균일하게 조절하며, 열응력으로 인한 웨이퍼 휨 또는 박막 증착 불균일 문제를 방지한다. 동시에 흡착력이 균일하게 분포되어 국부 응력점이 없어, 초박형 웨이퍼, 정밀 광학 부품 등 취약 소재의 표면 무결성을 효과적으로 보호하고, 기계식 클램핑으로 인한 스크래치 및 변형 문제를 근본적으로 해소한다.
현재 ESC 정전척은 초대규모 집적 회로 제조 장비의 핵심 부품으로 자리 잡고 있으며, 웨이퍼 계측, 전자빔 리소그래피, 반도체 칩 패키징 등 공정 분야에서 널리 적용되고 있다. 또한 전극 수, 평탄도 사양, 전체 치수 등 파라미터는 공정 요구에 따라 맞춤 설계가 가능해 8인치, 12인치 등 다양한 규격 웨이퍼의 가공 환경에 유연하게 대응할 수 있다.